01 / 常见异味来源
- 清洗与显影
- 刻蚀与湿法工艺
- 光刻胶及溶剂使用
- 集中洗涤塔尾气
行业异味治理
电子半导体
酸碱、清洗溶剂、DMSO与胺类多组分废气
从工序识别异味来源
02 / 主要污染物
- DMSO及含硫组分
- 乙醇胺与碱性气体
- 酸性气体
- 低浓度溶剂与异味
03 / 治理难点
- 水溶性、酸碱性和有机组分同时存在
- 连续运行对稳定性和材料防腐要求高
- 洗涤顺序和吸收液需要按组分配置
RECOMMENDED APPROACH
根据污染物性质确定组合顺序
利用JETA分级水洗、酸洗、碱洗或氧化洗涤，控制水溶性及酸碱性异味；末端低浓度组分再结合RAO或化学滤料。